외국인투자기업이 감면사업을 영위하는 과정에서 신기술을 개발하여 부수적으로 신기술을 외국법인에게 사용케 하고 받는 대가는 감면대상소득에 해당됨
전 문
[회신]
조세특례제한법 제121조의 2 제1항의 규정에 의한 법인세 감면대상사업을 영위하고 있는 외국인투자기업이 당해 감면사업을 영위하는 과정에서 신기술을 개발하여 당해 법인의 감면사업에 직접 활용하면서 부수적으로 당해 신기술을 외국법인에게 사용하도록 허여하고 지급 받는 대가는 법인세 감면대상소득에 해당된다.
| [ 질 의 ] |
| 1. 사실관계 한국법인인 듀폰포토마스크 주식회사(이하 한국듀폰)는 1995. 8. 19미국법인인 Dupont Photomasks, Inc.(이하 듀폰포토마스크)가 재정경제원장관으로부터 외국인투자의 신고수리를 받아 설립한 외국인투자기업으로서, 전자집적회로 제조업에 해당하는 반도체용 포토마스크제조업에 종사하고 있음. 듀폰포토마스크는 이에 관하여 구 외자도입법(이하 법) 제14조 소정의 법인세면제를 신청하였으며, 재정경제원장관은 1995. 12. 20 한국듀폰이 영위하는 반도체용 포토마스크제조업을 법 제14조 제1항 제1호 고도기술수반 외국인투자사업으로 보고, 한국듀폰이 당해 사업을 영위하여 얻은 소득에 대한 법인세와 듀폰포토마스크에 지급되는 배당소득에 대한 법인세의 면제를 결정하였음 한편, 한국듀폰은 감면대상 사업인 반도체용 포토마스크제조업(이하 이 건 감면대상 사업)을 영위하는 과정에서 Phase Shift Mask라는 포토마스크 제조관련 신기술을 개발하게 되었음. 한국듀폰은 이 신기술을 외국법인(주로, 외국인투자가인 듀폰포토마스크의 관계회사임)에게 라이센스하고 그 대가로 사용료를 수취하고자 하고 있음 2. 질의내용 한국듀폰이 이 건 감면대상 사업을 영위하는 과정에서 개발한 포토마스크 제조관련 신기술을 라이센스하고 얻는 사용료소득을 법 제14조 소정의 법인세면제대상소득으로 볼 수 있는가의 여부 |